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高纯钼靶是AMOLED面板生产中的关键原材料之一，该公司的新产品是适用于TFT-LCD/AMOLED的超宽高纯高密钼平面溅射靶材，主要应用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填补了内宽幅钼靶(1800mm)空白，对公司未来的市场
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钼靶材物理性质： 密度：10.2克/立方厘米 熔点：2610℃ 沸点：5560℃ 钼靶材纯度：99.9%，99.99% 规格：圆形靶，板靶，旋转靶 纯度：纯钼≥99.95%，高温钼≥99%（添加稀土元素） 钼靶材供货情况：
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旋转靶材是磁控的靶材。靶材做成圆筒型的，里面装有静止不动的磁体，以慢速转动。溅射靶材用于磁控溅射镀膜，溅射镀膜是种新型的物理气相镀膜(PVD)方式。在被溅射的靶(阴)与阳之间加个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气
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镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。简单说的话，靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时
