靶材的主要指标之一是密度，靶材的纯度对薄膜性能影响较大，更是在靶材的原先的技术工艺中减少靶材固体中的气孔，有效提高了溅射薄膜性能，并且影响了薄膜的光学和电学性能。靶材密度越高，薄膜性能越好。

　　靶材通常为多晶结构，晶粒大小从微米到毫米量级。晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快，而晶粒尺寸相差较小的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均匀。

　　钛铝靶应用范围：

　　钛铝靶广泛应用于真空镀膜行业的膜层镀制、金属、银色、玫瑰金、七彩色、黑钛等。
　　钛铝靶还可用于CVD涂层的原料、硬质涂层，硬面喷涂粉的主要原料。
　　把钛通过多种方式制成钛溅射靶材，可用于各种镀膜，例如：太阳能、平板显示、玻璃及装饰镀膜等。
　　钛铝靶可用于石油化工，真空制盐，氯碱工业，制药，精细化工，电解，电镀，海水淡化、航空航天等行业。

　　产品参数：
　　1.产品名称：钛铝靶
　　2.表面：光亮，酸洗面
　　3.号：TA0,TA1,TA2，TC4
　　4.纯度：99.95%
　　5.密度：4.51 g/cm3
　　6.加工范围：按客户要求
　　7.规格：可根据客户要求定做生产。
　　8.应用域：工业用途。
　　9.付款方式：30% 定金，70 %发货前付清。（含税开具17%增值税**）
　　10.包装方式: 用垫有塑料隔板的木箱包装，内附有材质证明书及装箱单等附件，单箱重量不超过100kg。
　　11.发货方式：快递或物流（可协商）
　　12.运 费：供应商承担。
　　13.后期服务：保质期内如出现质量问题，供方承担所有责任（正常使用范围内）