靶材是在电子信息行业中经常使用到的一种材料，虽然它的用途广泛，但寻常大众对于这种材料都了解不深，许多人都很好奇靶材的制作方法是什么？它又是怎样分类的？下面四丰小编就给大家介绍下靶材的制作方法及分类应用

　　一、靶材的制作方法

　　1、铸造法

　　铸造法是将一定成分配比的合金原料给熔炼起来，之后再将熔炼后得到的合金溶液浇到模具中，形成铸锭，再经过机械加工后就形成了靶材。铸造法一般需要在真空中熔炼铸造，常见的铸造方法有这几种：真空感应熔炼、真空电弧熔炼以及真空电子轰击熔炼，它的优点是制取的靶材杂质含量小，密度较高，能够大型化制作；缺点是如果是熔炼熔点和密度差别较大的两种及以上的金属时，常规的熔炼法很难制成成分均匀的合金靶材。

　　2、粉末冶金法

　　粉末冶金法是将一定成分配比的合金原料熔炼，之后再将熔炼后得到的合金溶液浇铸成铸锭，把浇成的铸锭粉碎，将粉碎后的粉末静压成型，然后高温烧结形成靶材。这样做成的靶材优点是成分均匀；缺点是密度低，杂质含量较高。经常用到的粉末冶金工业有冷压、真空热压以及热等静压这几种。

　　二、靶材的分类应用

　　1、半导体关联靶材：

　　电极、布线薄膜：铝靶材，铜靶材，金靶材，银靶材，钯靶材，铂靶材等。

　　储存器电极薄膜：钼靶材，钨靶材，钛靶材等。

　　粘附薄膜：钨靶材，钛靶材等。

　　电容器绝缘膜薄膜：锆钛酸铅靶材等。

　　2、磁记录靶材：

　　垂直磁记录薄膜：钴铬合金靶材等。

　　硬盘用薄膜：钴铬钽合金靶材，钴铬钽铂合金靶材等。

　　薄膜磁头：钴钽铬合金靶材，钴铬锆合金靶材等。

　　人工晶体薄膜：钴铂合金靶材，钴钯合金靶材等。

　　3、光记录靶材：

　　相变光盘记录薄膜：硒化碲靶材，硒化锑靶材，锗锑碲合金靶材，锗碲合金靶材等。

　　磁光盘记录薄膜：镝铁钴合金靶材，铽镝铁合金靶材，氧化镁靶材，氮化硅靶材等。

　　光盘反射薄膜：铝靶材，铝钛合金靶材，铝铬合金靶材，金靶材，金合金靶材等。

　　光盘保护薄膜：氮化硅靶材，氧化硅靶材，硫化锌靶材等。

　　以上就是四丰小编对靶材的制作方法及分类应用的全部介绍，靶材经常用于电子信息领域，比如用于显示器中，微电子中，或存储技术上，如果您还想了解更多有关靶材的资讯，可以向洛阳高新四丰电子材料有限公司留言咨询。